abril 12, 2021
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A61P9/10-Trastornos del sistema cardiovascular para el tratamiento de enfermedades isquémicas o ateroscleróticas, por ejemplo, medicamentos antianginosos, vasodilatadores coronarios, medicamentos para el infarto de miocardio, retinopatía, insuficiencia de cerebrovascula, arteriosclerosis renal
C12Q-MEDIR O ANALIZAR PROCESOS QUE INVOLUCRAN ENZIMAS, ÁCIDOS NUCLEICOS O MICROORGANISMOS; COMPOSICIONES O DOCUMENTOS DE PRUEBA DE LOS MISMOS; PROCESOS DE PREPARACIÓN DE DICHAS COMPOSICIONES; PROCESOS MICROBIOLÓGICOS O ENZIMOLÓGICOS CONTROL DE CONDICIÓN-RESPONSABILIDAD
C12Q-PROCESOS DE MEDICIÓN O ENSAYO CON ENZIMAS, ÁCIDOS NUCLEICOS O MICROORGANISMOS; COMPOSICIONES O PAPELES DE ENSAYO PARA ELLOS; PROCESOS DE PREPARACIÓN DE TALES COMPOSICIONES; CONTROL DEPENDIENTE DE LA CONDICIÓN EN PROCESOS MICROBIOLÓGICOS O ENZIMOLÓGICOS
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La necesidad de sustituir el Óxido de Indio y Estaño por electrodos conductores transparentes de alta transmitancia, baja resistencia de las láminas y versatilidad aumenta constantemente. Se depositó y estudió la salida de películas tricapa ultrafinas de Cu-Ag-Au sobre un sustrato flexible de polietileno tereftalato. La prueba de la cinta escocesa indicó una fuerte adhesión de la película metálica. La transmitancia de la tricapa en la región visible era de aproximadamente el 40 por ciento. Para investigar las características de la superficie, se hicieron mediciones con perfilador óptico. El patrón de XRD mostró que la película era amorfa. La resistencia de la lámina medida por cuatro técnicas de sondeo era de aproximadamente 7,7 Ohm/a y hasta 423 K era estable. Los parámetros de transporte por impacto Hall mostraron una alta conductividad y concentración de portadores con una movilidad de 5,58 cm2/Vs. Las pruebas realizadas en una máquina curvadora autóctona mostraron que las láminas eran estables incluso después de 50.000 ciclos de curvado, tanto mecánica como eléctricamente.
Se prepararon películas delgadas epitaxiales de Co/X (X=Cu,Ag,Au) mediante epitaxia de haz molecular UHV en sustratos de Al 2 O 3 (0001) a temperaturas de sustrato de 100 y 300 grados C. Para las películas delgadas epitaxiales se realizó una compleja microestructura. La observación por difracción de electrones de alta energía de la reflexión in situ demostró que durante la deposición de la capa de Co, los átomos X de la capa tampón se separaron a la superficie y produjeron una estructura granular epitaxial especial. La estructura consiste en pequeños granos de Co enterrados en la capa tampón X donde, en el sustrato de un solo cristal, crecen epitaxialmente tanto los pequeños granos magnéticos de Co como la capa X no magnética. Basándose en el factor X y la temperatura del sustrato, la estructura variaba. La estructura cristalina de los granos de Co está influenciada por el material de la capa tampón y se conoce como estructuras hcp y fcc para los materiales de la capa tampón de Au y Cu, respectivamente.

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